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桌面數顯式電解研磨裝置的特點MS-2100
是一款專為弱酸性電解液設計的桌面數顯式電解研磨裝置,適用于不銹鋼、銅合金、鎳合金等金屬的鏡面拋光與精密表面處理。以下從技術原理、結構特點、應用案例和市場信息四個方面進行系統介紹。
一、技術原理
弱酸性電解液體系
MS-2100 采用磷酸-硫酸系電解液(pH ≈ 2-3),避免了傳統高氯酸或鉻酸體系的毒性與強腐蝕性,符合綠色制造趨勢。電解過程中,工件作為陽極,在恒定電壓或電流作用下發生陽極溶解,表面微觀凸起優先溶解,從而實現整平與鏡面化
。
數顯恒壓/恒流控制
裝置內置高精度直流電源(0-60 V / 0-20 A),電壓分辨率達 0.01 V,電流分辨率達 0.001 A,可設定時間 0-99 h,自動關斷,確保工藝重復性
。
二、結構特點
桌面緊湊設計
整機尺寸 W215 × D507 × H460 mm,重量約 10 kg,可放置于普通實驗臺;
快換式樣品罩
標配 φ10 / 15 / 20 mm 三種聚四氟乙烯樣品罩,5 秒完成切換,適配不同直徑試樣;
內置磁力攪拌與溫控
磁力攪拌子確保電解液濃度與溫度均勻;外接冷水機或自來水可實現 20-60 ℃ 恒溫控制,避免過熱導致表面粗糙化
;
弱酸性專用 PTFE 電解槽
槽體容量 300-1000 mL,耐磷酸-硫酸腐蝕,清洗時只需清水沖洗 + 中性清洗劑擦拭,維護簡便。
三、應用案例
不銹鋼食品設備焊縫鏡面拋光
工件:SUS304 50 × 15 mm 試片
條件:180 mL 磷酸-硫酸電解液,60 ℃,3 V,3 min
結果:60° 光澤度從 151 提升至 500 以上,表面均勻鏡面,無蝕坑
;
銅合金散熱片
要求:去除刀痕,Ra ≤ 0.1 µm
工藝:20 V,25 ℃,2 min,金剛石套拋光
結果:Ra 0.08 µm,尺寸變化 < 2 µm,滿足后續真空釬焊要求;
鎳合金薄箔(0.1 mm)
采用低電壓 1 V + 低溫 15 ℃,避免過溶解,實現無應力鏡面。
四、市場與維護
上一篇:
Sanyo-Technos RP-NBC滾輪泵在電鍍液循環中的“零泄漏”方案
下一篇:
從 Ra 10 µm 到鏡面 Ra ≤ 0.1 µm 的一體化解決方案
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